獵頭公司11月9日人才推薦 某半導(dǎo)體公司 光刻工藝工程師30萬(wàn)
自我評(píng)價(jià)：
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熟練操作多種光刻相關(guān)設(shè)備，包括光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)、掃描電子顯微鏡（SEM）、光刻層間對(duì)準(zhǔn)精度（OVL）量測(cè)設(shè)備等。
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對(duì)光刻工藝有著深入且全面的理解。能夠依據(jù)產(chǎn)品經(jīng)理提出的要求，精確設(shè)計(jì)涂膠、曝光、顯影的工藝配方（Recipe）。在光刻過(guò)程中出現(xiàn)異常情況時(shí)，憑借豐富的經(jīng)驗(yàn)和專(zhuān)業(yè)知識(shí)可以迅速、有效地解決問(wèn)題，保障生產(chǎn)流程的順利進(jìn)行。
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工作經(jīng)歷：
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某半導(dǎo)體科技股份有限公司（2020.06——至今），光刻工藝工程師。
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光刻工作方面：
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負(fù)責(zé)某曝光機(jī)的光刻操作，全面涵蓋涂膠recipe、曝光recipe、顯影recipe的建立、優(yōu)化、維護(hù)以及工藝穩(wěn)定性監(jiān)控。主要制作線(xiàn)寬0.18μm及以上的線(xiàn)柵和各種客戶(hù)定制設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)圖形；針對(duì)亞微米多層套刻光刻產(chǎn)品，嚴(yán)格監(jiān)控套刻精度，目前已實(shí)現(xiàn)套刻精度小于50nm。
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承擔(dān)電子束機(jī)臺(tái)的日常光刻任務(wù)，所處理的測(cè)試圖形豐富多樣，包括衍射光學(xué)元件（DOE）、超表面、浮雕光柵等圖形，以及客戶(hù)的各類(lèi)設(shè)計(jì)圖形。通過(guò)精細(xì)調(diào)試涂膠、顯影、曝光能量等參數(shù)，成功滿(mǎn)足客戶(hù)設(shè)計(jì)要求，目前最小關(guān)鍵尺寸（CD）可達(dá)50nm，整片晶圓關(guān)鍵尺寸均勻性（CDU）小于10%。
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設(shè)備維護(hù)方面：
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負(fù)責(zé)部門(mén)黃光設(shè)備的日常維護(hù)工作，主要涉及涂膠機(jī)、曝光機(jī)、膜厚儀、臨界尺寸掃描電子顯微鏡（CDSEM）、掃描電子顯微鏡（SEM）等設(shè)備。具體工作包括日常點(diǎn)檢、配件更換、及時(shí)消除設(shè)備報(bào)警信息，確保光刻設(shè)備始終保持正常運(yùn)行狀態(tài)，保障生產(chǎn)不受設(shè)備故障影響。
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量測(cè)與工藝調(diào)整方面：
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進(jìn)行CDSEM量測(cè)自動(dòng)Recipe的創(chuàng)建，以此實(shí)時(shí)監(jiān)控光刻關(guān)鍵尺寸（CD）的穩(wěn)定性。同時(shí)，積極開(kāi)展問(wèn)題排查工作，依據(jù)數(shù)據(jù)反饋及時(shí)進(jìn)行工藝調(diào)整，有效保證光刻良率。負(fù)責(zé)對(duì)母板的光刻后檢查（ADI）和蝕刻后檢查（AEI）數(shù)據(jù)收集，并對(duì)測(cè)試的光效零級(jí)和均勻性進(jìn)行深入分析，進(jìn)一步排查問(wèn)題并調(diào)整工藝，全方位保障光刻良率。
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